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Journée Nationale de la Lithographie par Nano-Impression 2021

Premier atelier national sur les procédés de Lithographie par NanoImpression (NIL) et les développements technologiques associés.

L’objectif de cet atelier est de mettre en place une animation scientifique annuelle sur les technologies de la nano-impression.

Cette journée, partagée en 2 demies journées, vise à rassembler la communauté scientifique impliquée, en tant qu’acteurs ou utilisateurs, dans le développement des techniques jusqu’à l’intégration.

Une vision globale des avancées de divers domaines, la mutualisation des expertises, l’exploitation de la complémentarité des moyens seront au programme de cet atelier.

2 demies journées en visio conférence :

  • Jeudi 18 novembre 2021 à partir de 14H00 -> Programme
  • Vendredi 19 novembre 2021 à partir de 9H00 -> Programme

Important : Le programme du NIL2021 est maintenant finalisé mais il est encore possible d’y participer en qualité d’auditeur. (lien sur inscriptions).

Comité d’organisation

Andrea CATTONI, C2N, Palaiseau
Nicolas CHAIX, LTM, Grenoble
Céline CHEVALIER, INL, Villeurbanne
Emmanuelle DARAN, LAAS, Toulouse
Jean-Baptiste DOUCET, LAAS, Toulouse
Cécile GOURGON, LTM, Grenoble
Fréderic HAMOUDA, C2N, Palaiseau
Jean-Louis LECLERCQ, INL, Villeurbanne

Isabelle SAGNES, INSIS, CNRS, Paris
Caroline BOISARD, INSIS, CNRS, Paris

Orateurs invités

Véronique BARDINAL, LAAS, CNRS, Toulouse
Marco FAUSTINI, LCMCP, Sorbonne Université, CNRS, Collège de France, Paris
Guillaume GOMARD, Phytonics GmbH, Allemagne
Cécile GOURGON, LTM, CNRS, Grenoble
Jérôme RECHE, Univ. Grenoble Alpes, CEA, LETI

Contact : comiteorgajnil@led.insa-lyon.fr

Les inscriptions sont closes …

Accès restreint :

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