J-NIL 2023 du 11 au 12 Mai 2023, Lyon
Inscription / Soumission d’abstract / Programme / Infos pratiques
Après les J-NIL 2021, le comité d’organisation du Réseau National Lithographie par NanoImpression (RéNIL) vous invite aux prochaines journées consacrées aux procédés de Lithographie par NanoImpression et aux développements technologiques associés.
Ces journées sont ouvertes à toutes et tous et couvrent un large spectre d’applications. C’est une nouvelle occasion de rassembler la communauté scientifique qui souhaite partager ou découvrir les développements associés à ces technologies.
Les J-NIL 2023 se tiendront les 11 et 12 mai 2023 à l’Institut des Nanotechnologies de Lyon (https://inl.cnrs.fr/) au sein de son nouveau bâtiment Irène Joliot Curie sur le campus universitaire de La Doua à Villeurbanne.
Inscription
-> Date limite des inscriptions : vendredi 31 Mars 2023
-> Date limite de soumission des résumés : vendredi 14 avril 2013
Inscription GRATUITE mais obligatoire pour les étudiants et contractuels
Inscription 160€ pour les personnels chercheurs permanents (via Azur Colloques)
Inscription 320€ pour les industriels et start-up avec possibilité d’accueil sur stand (règlement via Azur Colloques)
Lien sur formulaire d’inscription
Attention, le nombre de places est limité!
N’hésitez pas à diffuser les dates de cet évènement.
Nous vous attendons nombreuses et nombreux !
Le comité d’organisation RéNIL.
Administration des inscriptions
Administration des dépôts d’abstracts